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豫磨精饰简析如何获得光亮的金属抛光表面

发布时间:2020-07-25发布人:豫磨精饰

 
 

 

  为了获得光亮的电抛光表面,必须使表面上微观粗糙度降低到低于光的波长。要达此目的,通常认为应当形成比中间黏液层更厚、更致密、更易钝化的紧密层,它可以是趋于饱和的高黏度黏液层,也可以是固体层。这样,金属的溶解是在紧密膜内进行的,紧密膜的形成速度应当超过该膜的溶解速度,这是存在紧密膜的前提。在几乎无对流的特殊条件下,变得十分厚,也更加紧密,甚至可以出现光的干涉色。在这样厚的黏液膜或固体膜内,阳极电流密度变得非常小,它可以使微观的凸出部溶解,而微观的凹入部不再溶解,这就达到了微观整平目的。由于类似的状态在金属表面的多处均存在,使表面的各个部分均发生微观整平,这种表面的无序微观整平的最终结果,就使金属表面变得光亮。所以电抛光实际上是阳极表面的宏观整平(一次电流分布)和微观整平(二次电流分布)作用的结果。只有宏观整平,阳极表面只能变得平滑,但不能产生光泽。有些电解液可以同时具有宏观整平与微观整平作用,在使用抛光机抛光的第一阶段,形成的黏液膜的黏度还不够高,此时只起宏观整平作用。当宏观整平进行到一定程度后,形成的黏液膜更黏、更贴近金属表面,因此也可以起微观整平的作用,从而达到真正抛光的效果。
  
 
 
 
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